삼전닉스 EUV 도입…최대 25일 빨라진다

정부가 첨단 반도체 공정에 사용되는 극자외선(EUV) 장비 도입 절차를 대폭 간소화한다. 장비 도입에 걸리는 기간은 최대 25일 단축되고 검사 비용도 장비당 약 5억원 절감될 것으로 예상된다. 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 반도체 기업 편의를 위한 정부의 제도 개선이다.

EUV 장비는 반도체 웨이퍼에 회로를 새기는 노광 공정에 쓰이며 네덜란드 기업인 ASML이 사실상 독점하고 있다. 신형은 한 대당 5000억원을 웃돈다.

2일 산업통상부는 이러한 제도 개선 내용을 담은 '고압가스 안전관리법 시행령' 일부개정안이 국무회의에서 의결됐다고 밝혔다. 시행령에는 글로벌 안전 기준을 충족한 반도체 제조 장비에 대해 고압가스 일반 제조시설이 아닌 '특정설비' 기준을 적용하도록 하는 내용이 담겼다.

그간 반도체 공정에 필수인 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관·장치가 포함돼 현행법상 '고압가스 제조설비'로 분류됐다. 이에 따라 EUV 장비를 설치할 때마다 기술 검토와 검사를 받아야 했다. 이 과정에서 장비 도입이 지연되고 기업 부담이 발생한다는 의견이 현장에서 제기됐다.

산업부는 EUV 장비를 '특정설비'로 전환하기로 했다. 이로써 앞으로는 3년 주기로 공장 심사와 종합 공정검사를 실시하면 기존 같은 안전성을 인정받을 수 있게 됐다.

검사에 걸리는 기간도 대폭 줄어든다. 기존에 EUV 장비를 검사하는 데는 총 34일이 걸렸다. 기술 검토에 15일, 허가에 5일, 중간검사에 7일, 완성검사에 7일이 소요됐기 때문이다. 앞으로는 기술 검토 기간이 2일로 줄어들고 중간검사는 생략된다. 완성검사는 7일에서 2일로 축소된다. 특히 중간검사는 공인 검사기관에 의뢰해 5억원의 비용이 들었는데 반도체 기업들은 이 비용도 절약할 수 있을 것으로 보인다.

산업부는 EUV 장비 규제 합리화를 담은 시행령 외에 시행규칙 개정도 추진했다. 이를 통해 액화 이산화탄소 세정설비가 국내 최초로 상용화될 수 있도록 맞춤형 검사 기준을 신설했다. 액화 이산화탄소 세정설비는 물과 세탁세제 대신 이산화탄소를 사용해 세탁하는 설비다. 위험성이 낮은 고압 가스시설의 안전관리자 선임 기준도 현실에 맞게 정비했다.

개정안은 다음주 공포 후 즉시 시행될 예정이다. 김정관 산업부 장관은 "이번 법령 개정은 안전 확보와 첨단 산업 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 대표적 규제 혁신 사례"라고 말했다.

[강인선 기자]

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