6년간 29억원 받으며 기술 빼돌려
“기업은 물론 국가에 손실 입혀”
삼성전자의 반도체 핵심 기술을 중국 경쟁사에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 전 삼성전자 직원에게 법원이 중형을 선고했다.
22일 서울중앙지법 형사합의28부(부장판사 한대균)는 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반(국가핵심기술 국외유출 등) 혐의로 기소된 삼성전자 엔지니어 출신 전 모씨(56)에게 징역 7년을 선고했다.
재판부는 전씨가 유출한 반도체 공정기술이 국가핵심기술에 해당한다고 판단했다. 재판부는 “우리나라 대기업이 막대한 자금과 연구인력을 투입해 개발한 반도체 핵심정보를 부정취득하고 외국에서 사용하게 했다”며 “대기업은 물론 대한민국에도 손실을 입힌 범행으로 엄한 처벌을 할 수밖에 없다”고 질타했다.
다만 “범행 당시 겸업금지나 영업비밀 준수에 대한 기업 측의 충분한 고지와 보상이 있었는지 의문”이라며 유리한 양형 사유로 들었다.
전씨는 삼성전자에서 중국 반도체 제조업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 이직한 뒤 삼성전자가 1조6000억원을 들여 개발한 18나노 D램 공정 정보를 무단 유출해 사용한 혐의로 재판에 넘겨졌다. CXMT는 중국지방정부가 세운 중국 최초의 D램 반도체 회사다.
전씨는 이 기술을 CXMT에 넘기는 대가로 계약 인센티브 3억원, 스톡옵션 3억원 등을 포함해 6년간 29억원을 받은 것으로 조사됐다.
전씨의 범행은 삼성전자 D램 공정기술을 CXMT에 무단 유출한 일당을 수사하는 과정에서 추가로 드러났다. 주범 일당은 1·2심에서 징역 3년 6월~20년을 각각 선고받았다.
전씨와 공모한 전 삼성전자 부장 김 모씨는 징역 6년과 벌금 2억원을 선고받았지만 대법원이 형을 더 무겁게 하라는 취지로 파기환송했다. 부정경쟁방지법은 영업기밀을 ‘취득’ ‘사용’ ‘제3자 누설’로 구분해 처벌한다. 원심은 공범끼리 영업기밀을 주고받은 행위도 ‘사용’으로 봤지만 이를 ‘누설’로 세분화해 가중처벌해야 한다는 취지다. 이들의 파기환송심은 오는 23일이다.

















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