ASML, 2030년까지 칩 생산량을 50% 늘릴 수 있는 EUV 광원 기술 공개

Hacker News 의견들

• 초보자 입장에서 EUV 기술을 아주 멋지게 설명한 영상임
  YouTube 링크

  • Veritasium 영상보다 먼저 나온 다른 영상도 추천함
  • 금속의 미세한 방울을 폭발시키는 장면이 정말 만화같이 미친 기술처럼 느껴졌음
    내가 투자 중인 두 회사도 이 장비 없이는 완전히 무너질 것 같음
  • Asianometry의 영상도 좋음. ASML의 광원 기술에 초점을 맞춘 내용임
  • 영상을 보고도 왜 EUV 광원을 만들기 위해 이렇게 복잡한 방식이 필요한지 이해가 안 됨
    가시광선이나 X선은 쉽게 만들 수 있는데, 왜 이 파장대만 그렇게 어려운지 궁금함
  • 추적 파라미터가 없는 깨끗한 링크도 공유함

• 연구진이 EUV 광원의 출력을 600와트에서 1,000와트로 향상시켰다고 함
  1,500와트, 나아가 2,000와트까지도 가능하다는 전망이 있음

• 왜 이게 중요한지 설명함
  현재 밝은 EUV(100~200와트)를 만드는 유일한 방법은 미세 금속 방울을 분사하고, 각 방울을 레이저로 쏘는 방식임
  정말 기이한 방식으로 빛을 만드는 셈임

  • 이제 각 방울을 두 번이 아니라 세 번 레이저로 타격하고, 초당 10만 개의 방울을 처리할 예정이라 함
    상상하기조차 어려운 정밀도임

• 출력이 67%나 증가한 점이 특히 인상적임
  600와트에서 1,000와트로 올렸고, 1,500~2,000와트까지의 명확한 로드맵이 있다고 함

• 기사에서 “미국과 중국의 경쟁” 구도를 만든 게 이상하다고 느낌
  Cymer는 원래 샌디에이고에서 설립된 미국 회사임

  • 실제로 EUV 광원 기술은 캘리포니아의 Cymer가 설계·개발·제조한 것임
    ASML이 2013년에 인수했지만, 수출 통제 협정이 없었다면 인수 자체가 불가능했을 것임
    만약 통제가 풀리면 미국이 TikTok처럼 Cymer를 다시 미국 소유로 돌리라고 요구할 수도 있음
    결국 이건 미국 기술인데, 왜 경쟁 구도로 묘사하는지 이해가 안 됨
  • 일본도 경쟁 가능한 기술을 개발 중이라고 들음

• 요즘 트랜지스터 같은 개별 소자 크기가 얼마나 작은지 궁금했음
  몇 원자 단위까지 가면 더 이상 줄일 수 없을 것 같음

  • 실제 게이트 폭은 30~50nm 정도임. ‘3nm’이라는 명칭은 마케팅 용어에 불과함
  • 이번 연구는 개별 소자 축소가 아니라 기계당 출력 향상에 초점이 맞춰져 있음
  • 일부 게이트는 10~14nm로, 약 50개의 실리콘 원자 크기임
  • 2nm 공정 위키 문서 참고용 링크도 공유함

• 이런 칩들이 어떤 하드 드라이브나 메모리 슬롯과 호환될지 궁금함

• 결과적으로 AI 산업은 칩을 50% 더 확보하겠지만, 일반 사용자는 여전히 GPU 품귀를 겪을 것 같음
  EUV 기술이 이렇게 발전했는데도, 실제 혜택이 대중에게 오기까지는 오래 걸릴 듯함

  • AMD와 Intel의 차세대 CPU(Zen 6, Nova Lake)가 모두 내년으로 출시 연기됨
    TSMC의 생산 능력이 AI 수요에 집중된 탓도 있고, DRAM과 SSD 부족으로 신제품 출시가 어려운 상황임

• 진공 시스템은 온도 변화에 매우 민감한데, 그 안에서 이렇게 큰 출력 증가를 달성한 건 놀라운 성과임